Diffusion是什么工序?
用于形成N型硅的常见元素为:磷(P),砷(As),锑(Sb)其他元素:Ge,Te,硫
因此,围绕这些元素,我们需要找到能够提供这些元素的物质。一般我们会选择这些元素的氢化物,氯化物,烃基化物等,如磷化氢(PH3):用于n型掺杂。乙硼烷(B2H6):用于p型掺杂。氢化锗(GeH4):用作掺杂前体或用于沉积锗薄膜。三氯化砷(AsCl3):用于n型掺杂。三氟化砷(AsF3):用于n型掺杂。硫化氢(H2S):用于掺硫制备n型半导体材料。氟化硼(BF3):用于p型掺杂。三氯化硼(BCl3):用于p型掺杂。氢化硒(SeH2):用于掺杂或沉积硒化物。氢化锑(SbH3):用于n型掺杂。二甲基碲((CH3)2Te):用于掺杂或沉积碲化物。二甲基镉((CH3)2Cd):用于掺杂或沉积镉化物。二乙基镉((C2H5)2Cd):用于掺杂或沉积镉化物。三氯化磷(PCl3):用于n型掺杂。二乙基碲((C2H5)2Te):用于掺杂或沉积碲化物。砷化氢(AsH3):用于n型掺杂。 为什么选择的氢化物较多?1,氢化物在硅中的扩散能力较强,能够在较低的扩散温度下有效地掺杂2,氢化物具有较高的挥发性。3,受热易分解