知识星球（星球名：芯片制造与封测社区）里的学员问：炉管设备（立式）的内部构造是怎样的？
Heating Element（加热线圈）： 位于炉管周围，通常由电阻丝构成，用于对炉管内部进行加热。Quartz Tube（石英管）： 热氧化炉的核心部分，由高纯度石英制成，可以耐受高温并保持化学惰性。Gas Feed（气体供应口）： 位于炉管的上端或侧面，用于输送氧气或其他气体到炉管内部。 SS Flange（法兰）：连接石英管和气体线路的部件，确保连接的密封性和稳定性。 Gas Feed Lines：连接MFC和气体供应口的管道，用于传输气体。 MFC（质量流量控制器）：控制石英管内部气体流量的设备，以精确调节所需的气体量。 Vent（排气口）：用于将炉管内部的废气排出设备外部。 下部Silicon Wafers in Holder： 硅片安放在特制的Holder中，以确保在氧化过程中均匀地受热。 W afer Holder ： 用于固定硅片，确保硅片在工艺过程中保持平稳。Pedestal： 承托硅片 Holder的结构，通常由耐高温材料制成。 Elevator（升降机） ： 用于将硅片Wafer Holder升入和降出石英管，实现自动化装载和卸载硅片。Wafer Transfer Robot： 位于炉管设备的侧面，用于自动化地将硅片从盒中取出并放入炉管内，或者在处理完毕后将其取出。Cassette Storage Carousel： 用于存放含有硅片的盒子，并能旋转以便机器人取用。Wafer Cassette： 晶圆盒，用于存放和传输待处理的硅片。
