Savina Mx是日本KBSEIREN株式會社（原KANEBO）開發的目前*高級的無塵擦拭布系列產品，吸水吸油性極強，不磨損原件。廣氾用於光學鏡頭製造，辦公器材保養，10級以上的無塵車間淨化室，半導體生產線車間等領域。

cleanroom wiper
高科技領域正日益精密和複雜。對於LSI和LCD等產品生產過程中所需的嚴格無塵環境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕鬆滿足時代需求，具有出色的功能，足以應對超級無塵室中的極端無塵條件。

無塵室中所使用的擦拭布應當能夠清潔所有儀器、器械和外圍設備，同時不會造成污染。擦拭布還要能夠吸收並清除多餘的水分。Savina MX具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能最好的擦拭布之一，專為高科技時代而設計。

超級高收縮、高密度整理產品

Savina MX在專門的細針距針織機上編製而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經任何粘合劑處理，就達到了這樣的緻密結構。所得擦拭布表面積高達25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g

特　色

掉毛量極少。
迅速而積極地吸收並留住水分。
殘留離子和其他物質的溶解率較低。
具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量最大，同時不會污染無塵室設備）。

用　途

光磁盤、硬盤和軟盤的生產過程
液晶偏轉板以及其他物品的生產過程
光盤和磁盤的生產過程
錄像機的生產過程
隱形眼鏡的生產過程
相機裝配線
印刷電路板的清潔工藝
相機鏡頭鍍膜前的清潔工藝
藥品生產線清潔工藝
電影膠片清潔工藝
半導體和基礎電路的生產過程
精密塗層之前工件的清潔過程

規格：24cm x 24cm 10/小包         100片/大包

         15cm x 15cm  100片/小包    200片/大包